【お知らせ】

「新型コロナウイルの感染拡大のため、セミナーを中止することとしました。改めて開催する場合には、またお知らせいたします。ご迷惑をおかけして大変申し訳ございません。」

中国における他者権利防止のための公開戦略ー意匠・特許の公知化による防衛方法ー

中国の実用新案、意匠制度では実体審査が行われないため、冒認出願が登録になる危険性が高くなっています。また、中国は独特な制度であるため、国外で形成された証拠については大使館認証が必要など様々な制約があります。

本セミナーでは、中国意匠実務の留意点を紹介するとともに、国家知識産権局傘下の知識産権出版社(IPPH)が提供する特許・意匠の公知化プラットフォームを使った中国における特許・意匠等の防御的公開の中国独自の特徴と、その活用方法を、実例を交えてお話しします。

開催日時

日時
2020年226日(水) 14:00-16:00 (受付開始13:30)
費用
無料
対象

中国における意匠の冒認出願にお困りの方

中国で公知化して事業を守りたい方

出願コストかけずに保護したい方

定員
20名
場所
東京国際フォーラム G407 東京都千代田区丸の内3丁目5番1号

プログラム

第1部 14:00~15:00
「中国意匠の基礎(制度の特徴、最近のトピックス等)」

講師:北京ユニインテル特許事務所

パートナー弁理士  西内盛二 氏

第2部 15:00~16:00
「中国における意匠の防衛的公開の活用」

講師:北京ユニインテル特許事務所

元中国意匠審査官  張 穎 氏

お申込み